Ich habe gestern noch mal die Masken neu gemacht und bin nach Anweisung vorgegangen. Beim 1. Maskensatz standen alle 4 Mask construction parameters auf Null.
Bei Erstellung des 2. Maskensatzes muss ich den Alpha to repair-Regler bis ganz nach rechts schieben, damit das Logo verschwindet, wenn dabei der Repair radius af Null steht, aber nur etwas über die Mitte, wenn ich auch den Repair Radius verstelle. Habe es mit beiden Einstellungen versucht, scheint aber wohl keinen Unterschied zu machen, richtig? Der angehängte 2. Maskensatz ist mit Alpha-to-rapir ganz rechts und repair Radius auf Null.
Spielen eigentlich die "Repair parameters" (Depth, Power, Pixel aspect) eine Rolle? Die habe ich bisher einfach so gelassen.
Das bisherige Ergebnis ist jedenfalls so: Bei relativ monotonem Hintergrund ist das Logo weg, bei Strukturen bzw. etwas komplexeren Bildausschnitten sieht man den verwaschenen Logoumriss (Bildbeispiele im Zipfile) d.h. es ist in etwa wie bei Logoaway. Die Beispiele habe ich mit cmix=0.8 und Lmix=1 gemacht und vorher ein bisschen mit diesen beiden Parametern herumprobiert, aber kein besseres Ergebnis bekommen.
Sind die Masken jetzt okay und kann ich davon ausgehen, dass es an der bescheidenQualität der Quelle liegt, dass das Ergebnis nicht besser ausfällt? Oder kann man noch etwas verbessern?
Gruß Erbse